DC MAGNETRON SIÇRATMA TEKNİĞİ İLE BÜYÜTÜLEN TİTANYUM İNCE FİLMLERİNİN FİZİKSEL ÖZELLİKLERİNİN İNCELENMESİ

dc.contributor.advisorATICI, YUSUF
dc.contributor.authorKAPLAN, ÜMÜT
dc.date.accessioned2026-08-12T10:10:36Z
dc.date.issued2019
dc.departmentFÜ, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Anabilim Dalı
dc.description.abstractBu çalışma kapsamında doğru akım (DC) magnetron sıçratma tekniği ile hazırlanan 300 nm kalınlığındaki titanyum (Ti) ince filmleri 10, 20 ve 30 mTorr'luk sıçratma gazı (argon) basınç değerlerinde ve 15 dakika boyunca 150oC'lik alt tabaka sıcaklığı ile büyütülen ince filmlerin yüzey morfolojileri ve elementsel bileşimi üzerinde gaz basıncının etkisi araştırılmıştır. Atomik Kuvvet Mikroskobu, X-ışını Kırınımı, Taramalı Elektron Mikroskobu ve Enerji Dağılımlı X-ışını teknikleri kullanılarak numunelerin mikro yapıları incelenmiştir.
dc.description.abstractIn this study, the effect of gas pressure on 300 nm-thick titanium (Ti) thin films grown by direct current (DC) magnetron sputtering technique and the surface morphologies and elemental compositions of thin-films due to the sputtering gas (argon) pressure values of 10, 20 and 30 mTorr with a substratum temperature of 150 oC for 15 minutes have been investigated. Micro structures of the samples have been studied by Atomic Force Microscope, X-Ray Diffraction, Scanning Electron Microscope and Energy Dispersive X-Ray techniques.
dc.identifier.citationKAPLAN, Ü. (2019). DC magnetron sıçratma tekniği ile büyütülen titanyum ince filmlerinin fiziksel özelliklerinin incelenmesi (Tez No. 570464) [Yüksek lisans tezi, Fırat Üniversitesi].
dc.identifier.urihttps://tez.yok.gov.tr/UlusalTezMerkezi/TezGoster?key=jNRDC1RLfVd4_T7x7ZXmmVHgCyCAtVYUA6KxJTJVNjP08LzcyHrtECMg-zy2d6Yn
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11508/23046
dc.identifier.yoktezid570464
dc.language.isotr
dc.publisherFırat Üniveristesi
dc.relation.publicationcategoryTez
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.snmzKA_TEZ_20260511
dc.subjectFizik ve Fizik Mühendisliği
dc.titleDC MAGNETRON SIÇRATMA TEKNİĞİ İLE BÜYÜTÜLEN TİTANYUM İNCE FİLMLERİNİN FİZİKSEL ÖZELLİKLERİNİN İNCELENMESİ
dc.title.alternativeInvestigation of physical propenties of titanium thin films grown by DC magnetron sputtering technique
dc.typeMaster Thesis

Dosyalar