DC MAGNETRON SIÇRATMA TEKNİĞİ İLE BÜYÜTÜLEN TİTANYUM İNCE FİLMLERİNİN FİZİKSEL ÖZELLİKLERİNİN İNCELENMESİ

Abstract

Bu çalışma kapsamında doğru akım (DC) magnetron sıçratma tekniği ile hazırlanan 300 nm kalınlığındaki titanyum (Ti) ince filmleri 10, 20 ve 30 mTorr'luk sıçratma gazı (argon) basınç değerlerinde ve 15 dakika boyunca 150oC'lik alt tabaka sıcaklığı ile büyütülen ince filmlerin yüzey morfolojileri ve elementsel bileşimi üzerinde gaz basıncının etkisi araştırılmıştır. Atomik Kuvvet Mikroskobu, X-ışını Kırınımı, Taramalı Elektron Mikroskobu ve Enerji Dağılımlı X-ışını teknikleri kullanılarak numunelerin mikro yapıları incelenmiştir.In this study, the effect of gas pressure on 300 nm-thick titanium (Ti) thin films grown by direct current (DC) magnetron sputtering technique and the surface morphologies and elemental compositions of thin-films due to the sputtering gas (argon) pressure values of 10, 20 and 30 mTorr with a substratum temperature of 150 oC for 15 minutes have been investigated. Micro structures of the samples have been studied by Atomic Force Microscope, X-Ray Diffraction, Scanning Electron Microscope and Energy Dispersive X-Ray techniques.