YARIİLETKEN İNCE FİLMLERİN İÇ YAPILARININ İNCELENMESİ

dc.contributor.advisorATICI, YUSUF
dc.contributor.authorKAYA, MEHMET
dc.date.accessioned2019-08-13T20:48:02Z
dc.date.available2019-08-13T20:48:02Z
dc.date.issued2001
dc.departmentFÜ, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Anabilim Dalı
dc.descriptionBu tezin, veri tabanı üzerinden yayınlanma izni bulunmamaktadır. Yayınlanma izni olmayan tezlerin basılı kopyalarına Üniversite kütüphaneniz aracılığıyla (TÜBESS üzerinden) erişebilirsiniz.
dc.description.abstractYÜKSEK LİSANS TEZİ YARIİLETKEN İNCE FİLMLERİN İÇ YAPILARININ İNCELENMESİ Mehmet KAYA Fırat Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Fizik Anabilim Dalı 2001, sayfa : 103. Bu tezde, moleküler ışın epitaksi (MBE) yöntemi ile büyütülen GaAs/Si(001) filmlerinin mikroyapılan geçirmeli elektron mikroskopisi (TEM) ile incelendi. Büyütülen GaAs/Si filmleri, yaklaşık 1 nm kalınlığında 6 tane Si ara tabakalarını içermektedir. İnceleme işlemlerinde kesit-alan ve düzlem-görüntü numuneleri kullanıldı. GaAs/Si(001) kesit-alan görüntülerinde, Si(001) alt tabakası ile GaAs üst tabakası arasında düzgün bir ara yüzeyin oluştuğu ve burada çok sayıda kristal kusurlarının meydana geldiği gözlendi. Ayrıca GaAs yapısında bulunan Si ara tabakalarının dalgalı bir görünüm oluşturdukları gözlendi. Ara yüzeyde oluşan uyumsuzluk dislokasyonlarının, ara yüzeydeki zorlanmayı azalttığı ve bu dislokasyonların bazılarının üst tabakaya çıkarak tırmanıcı dislokasyonları oluşturdukları belirlendi. Tırmanıcı dislokasyonlardan bazılarının birbirleri ile etkileştiği ve bazılarının da Si ara tabakaları tarafından engellendiği gözlendi. Ayrıca tırmanıcı dislokasyonların Si ara tabakası-GaAs ara yüzeylerinde hareket ederek yeniden uyumsuzluk kusurlarını oluşturduğu tespit edildi. Böylece, dislokasyon yoğunluğunun ara yüzeyden yukarı doğru azaldığı belirlendi. Buna rağmen Si ara tabakalarında çok az sayıda uyumsuzluk dislokasyonlarının meydana geldiği fark edildi. GaAs/Si(001) kesit-alan ve düzlem-görüntü numunelerinin her ikisinde de uyumsuzluk ve tırmanıcı dislokasyonların oluştuğu gözlendi. Bu dislokasyonların 60° uyumsuzluk dislokasyonları ve kayma sistemlerinin 1/2<1 10> {111} olduğu belirlendi. GaAs/Si(001) kesit-alan numunelerinden alınan elektron difraksiyon desenleri, GaAs tabakasının örgü sabitinin küçüldüğünü gösterdi. Yine difraksiyon desenlerinden ara yüzeyde bir miktar zorun kaldığı anlaşıldı. Anahtar Kelimeler: GaAs/Si İnce Filmleri, Uyumsuzluk ve Tırmanıcı Dislokasyonlar, Dislokasyon Yoğunluğu, Ara Yüzeyler.
dc.identifier.citationKAYA, M. (2001). Yarıiletken ince filmlerin iç yapılarının incelenmesi (Tez No. 114306) [Yüksek lisans tezi, Fırat Üniversitesi].
dc.identifier.yoktezid114306
dc.language.isotr
dc.publisherFırat Üniveristesi
dc.relation.publicationcategoryTez
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/closedAccess
dc.snmzKA_TEZ_20260511
dc.subjectFizik ve Fizik Mühendisliği
dc.subjectPhysics and Physics Engineering
dc.titleYARIİLETKEN İNCE FİLMLERİN İÇ YAPILARININ İNCELENMESİ
dc.title.alternativeMicrostructural investigation of semiconductor thin films
dc.typeMaster Thesis

Dosyalar

Orijinal paket

Listeleniyor 1 - 1 / 1
Yükleniyor...
Küçük Resim
İsim:
114306.pdf
Boyut:
6,55 MB
Biçim:
Adobe Portable Document Format
Açıklama: